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euv光刻机原理 euv光刻机的作用
euv光刻机原理是接近或接触式光刻通过无限靠近，复制掩模板上的图案；直写式光刻是将光束聚焦为一点，通过运动工件台或镜头扫描实现任意图形加工，投影式光刻因其高效率、无损伤的优点，是集成电路主流光刻技术，光刻机，MaskAligner，是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备，其分为两种，一种是模板与图样大小一致的contact...。
互联百科 2025-07-21 11:03:58